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SFE-35型超臨界二氧化碳超聲清洗系統(tǒng) 超臨界二氧化碳無損傷清洗設(shè)備。應用此設(shè)備對硅片進行清洗的顆粒明顯減少，且平均粒徑小于傳統(tǒng)清洗的粒徑。相對用等離子法清洗，該方法不會對硅片造成損傷，同時可減少工藝步驟，節(jié)省時間，提高工作效率。

SFE-1型超臨界二氧化碳清洗系統(tǒng) 超臨界二氧化碳無損傷清洗設(shè)備。應用此設(shè)備對硅片進行清洗的顆粒明顯減少，且平均粒徑小于傳統(tǒng)清洗的粒徑。相對用等離子法清洗，該方法不會對硅片造成損傷，同時可減少工藝步驟，節(jié)省時間，提高工作效率。